靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的(Ar)离子化。
造成靶与(Ar)离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdischarge)将(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。
在2005年后，由于外购银泥发生变化，杂质含量变动很大，采用原有的工艺根本无法再生产高纯银。经熔炼后生产的阳极板质量为，Au % 3.11~ 9.98%，Ag 68.76% ~84.62%，Cu 0.14%~1.76%，
除了在现代工业中被广泛应用外，也是人类社会消费的重要领域，由于其艳丽的永恒的金属光泽，首饰及其装饰物更为人们所津津乐道，其中黄金更兼具金融货币的功能，是抵御通货膨胀的选择品种，是社会资本投资的重要的领域，也是投资者以少博多的创造财富的重要渠道。控溅射镀膜是一种物li气相镀膜方式，现技术已较为成熟，主要应用于以下领域：装饰薄膜靶材，建筑玻璃、汽车玻璃、低辐射玻璃，平面显示器，光通讯/光学工业，光数据存储工业，光数据存储工业，磁数据存储工业。
由于具有独特的物理化学性能，当代科学技术的飞速发展，将会越来越多的应用于国民经济中的航空、航天、航海、火箭、原子能、微电子技术等高科技领域及石油化工、化学工业、汽车尾气净化等与人类生活息息相关的领域，并在众多的应用领域中起着关键的的作用。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的(Ar)离子化。
此外，铂电阻比在1.3920（R100/R0）直径在0.01-0.05mm的铂丝通常用作电阻温度计，来进行温度的测量，铂铱10-30的直径为0.08mm的丝材被广泛应用于防风打火机，铂铑丝及铂铱丝也被用作电阻炉的导热材料。由于qing化法提金的日益发展和企业为提高经济效益，减少精矿运输损失，近年来产品结构发生了较大的变化，多采取就地处理(当然也由于选冶之间的矛盾和计价等问题，迫使矿山就地自行处理)促使浮选工艺有较大发展，在黄金生产中占有相当的重要地位。钯丝可用作触点材料，银及银合金丝材为电工电器方面优良的触电材料。
在人们的日常生活消费品中，金、银、铂、钯（及其合金）常被拉成丝材以后，制成各种不同形状的首饰（如项链、手链、耳环等）
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